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LARGE SILICON WAFER
大尺寸硅片制造
湿法设备应用
面向硅片磨抛后清洗、RCA清洗及自动化搬送需求。
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APPLICATION
相关湿法工艺
01
磨抛后清洗
02
RCA清洗
03
漂洗干燥
04
自动搬送
EQUIPMENT
设备方向
槽式清洗设备
具体适用性与配置通过项目沟通确认。
单片清洗设备
具体适用性与配置通过项目沟通确认。
自动化辅助设备
具体适用性与配置通过项目沟通确认。
INDUSTRY APPLICATION
从行业场景进入,再回到具体对象与工艺
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